Spellman High Voltage – Полупроводники – Ионная имплантация и литография
Источники питания для запоминающих устройств
Создание запоминающих устройств все большей емкости и полупроводниковых устройств, со все меньшим размером элементов требует применения более эффективных источников высокого напряжения с расширенными возможностями управления. Spellman разрабатывает источники питания с напряжением до 400 киловольт для работы в тяжелых условиях дуговых разрядов, наблюдающихся в ряде вакуумных технологических процессов, таких как ионно-лучевое травление, электронно-лучевое вакуумное напыление и ионная имплантация. Кроме того, наши источники питания созданы с использованием прецизионной схемотехники, необходимой для обеспечения низкого уровня пульсаций и высокой стабильности выходных напряжений и токов, требуемых для электроннолучевой литографии. Опыт и передовые разработки Spellman сделали нашу компанию предпочтительным кандидатом для выбора отраслями промышленности, нуждающимися в новаторских решениях сложных проблем, которые связаны с новыми применениями. Мы нацелены на обеспечение поддержки новых разработок в наиболее технологически передовых отраслях промышленности, где требуются источники питания постоянного тока высокого напряжения.
(Фотографии предоставлены Veeco Instruments Inc.)